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吾国超高精度激光光刻技术取得壮大突破 实现十足自立(股)

时间:2020-07-13 10:19来源:未知 作者:admin 点击: 185 次
据报道,近日,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生钻研所张子旸钻研员与国家纳米中央刘前钻研员配相符,开发成功新式5nm超高精度激光光刻添工手段。该技术行使了钻研团队所开发

据报道,近日,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生钻研所张子旸钻研员与国家纳米中央刘前钻研员配相符,开发成功新式5nm超高精度激光光刻添工手段。该技术行使了钻研团队所开发的具有十足知识产权的激光直写设备,打破了传统激光直写技术中受体原料为有机光刻胶的控制,可行使多栽受体原料,极大地扩展了激光直写的行使场景。

亚10nm的组织在集成电路、光子芯片、微纳传感、光电芯片、纳米器件等技术周围有着庞大的行使需要,这对微纳添工的效果和精度挑出了很多新的挑衅。然而,永远以来激光直写技术很难做到纳米尺度的超高精度添工。此次中国钻研团队很益地解决了高效和高精度之间的固有矛盾,工程案例开发的新式微纳添工技术在集成电路、光子芯片、微机电体系等多多微纳添工周围表现了汜博的行使前景。

有关上市公司:

清溢光电(走情688138,诊股):主要采用激光直写法生产集成电路掩膜版,客户包括中芯国际(走情688981,诊股)等;

苏大维格(走情300331,诊股):研发成功紫外激光直写光刻关键技术、柔件和装备,处于国际领先地位。公司在互动平台外示,与中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生钻研一切项现在配相符。

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